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產(chǎn)品展示/ Product display

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納米氧化鈰分散機(jī)

納米氧化鈰分散機(jī)物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

  • 產(chǎn)品型號:XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-12
  • 訪  問  量:1341
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詳細(xì)介紹

納米氧化鈰分散機(jī),氧化鈰分散機(jī),納米分散機(jī),納米氧化鈰分散機(jī)

 

分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的精細(xì)分布。 

納米氧化鈰或黃褐色助粉末。密度7.13g/cm3。熔點2397。不溶于水和堿,微溶于酸。在2000溫度和15Mpa壓力下,可用氫還原氧化鈰得到三氧化二鈰,溫度游離在2000℃間,壓力游離在5Mpa壓力時,氧化鈰呈微黃略帶紅色,還有粉紅色,其性能是做拋光材料、催化劑、催化劑載體(助劑)、紫外線吸收劑、燃料電池電解質(zhì)、汽車尾氣吸收劑、電子陶瓷等。

 

氧化劑。有機(jī)反應(yīng)的催化劑。鋼鐵分析作稀土金屬標(biāo)樣。氧化還原滴定分析。脫色玻璃。玻璃搪瓷遮光劑。耐熱合金。

 

用作玻璃工業(yè)添加劑,作板玻璃研磨材料,還可用在化妝品中起到抗紫外線作用。目前已擴(kuò)大到眼鏡玻璃、光學(xué)透鏡、顯像管的研磨,起脫色、澄清、玻璃的紫外線和電子線的吸收等作用。

納米氧化鈰粉體 

團(tuán)聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩(wěn)定狀態(tài),因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團(tuán)聚,形成團(tuán)聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個顆粒內(nèi)部有細(xì)小孔隙。

納米顆粒的團(tuán)聚一般分為兩種:軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對于軟團(tuán)聚機(jī)理,人們的看法比較*,即,軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來消除。對于硬團(tuán)聚,不同化學(xué)組成不同制備方法有不同的團(tuán)聚機(jī)理,無法用統(tǒng)一的理論來解釋。因此需要采取一些特殊的方法來對其進(jìn)行控制。

 

納米氧化鈰分散的解決辦法  

 

分散相在外力(重力或離心力)作用下,在連續(xù)相中上浮或下沉的結(jié)果。在忽略布朗運(yùn)動效應(yīng)的靜態(tài)條件下,可用Stokes 定律來描述,即分散相球形顆粒由于重力的沉降速度 V 由下式確定:

式中ρs -ρ為分散相與連續(xù)相的密度差,g 為重力加速度,d 為分散相顆粒直徑,μ為連續(xù)相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續(xù)相密度大,顆粒下沉,速度 V 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負(fù)值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩(wěn)定,就必須降低沉降速度,對于特定的漿料可以通過減小分散相固體顆粒直徑 d。因為只有當(dāng)粒徑減至連續(xù)相液體分子大小時,顆粒才能穩(wěn)定、均勻地分散在液體中不發(fā)生分離。

通過以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩(wěn)定性,分散相顆粒的粒徑應(yīng)盡量細(xì)小。但應(yīng)該指出,根據(jù)前人所做的大量研究發(fā)現(xiàn),隨著顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變?yōu)榇我囊蛩兀怯捎陬w粒之間的間距減小,顆粒之間的結(jié)合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當(dāng)顆粒直徑小于某一細(xì)小尺寸時,此時,顆粒的布朗運(yùn)動效應(yīng)就不能忽略了,所以由于細(xì)小顆粒的布朗運(yùn)動,而使得顆粒之間產(chǎn)生激烈地碰撞。若不加穩(wěn)定劑,這些情況都會導(dǎo)致顆粒團(tuán)聚,對體系的穩(wěn)定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細(xì)越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據(jù)物料的特性與特點,減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個較窄的尺寸范圍,并達(dá)到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩(wěn)定。

 

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點

1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g -轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN -轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

 

速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

 

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在XMD2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出XMD2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng),乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓均質(zhì)機(jī)的400BAR壓力下的顆粒大小.

 

2、設(shè)備特點

     XRS設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比:

高效、節(jié)能

傳統(tǒng)設(shè)備需8小時的分散加工過程,XRS設(shè)備1小時左右完成,超細(xì)分散*,能耗極大降低;

高速、高品質(zhì)

傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;XRS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。

⑵XRS設(shè)備與同類設(shè)備相比:

多層多向剪切分散

同類設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象;

XRS設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更為*。

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